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高能脉冲磁控溅射（HiPIMS）镀膜机:HiPIMS-001
High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS) Coating Machine
中国科学院院刊, 2019, 34(Z1): 40-40
Bulletin of Chinese Academy of Sciences, 2019, 34(Z1): 40-40

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高能脉冲磁控溅射（HiPIMS）镀膜机:HiPIMS-001[J]. 中国科学院院刊, 2019, 34(Z1): 40-40
High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS) Coating Machine[J]. Bulletin of Chinese Academy of Sciences, 2019, 34(Z1): 40-40
高能脉冲磁控溅射（HiPIMS）镀膜机:HiPIMS-001
High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS) Coating Machine

性能指标

● 等离子体离化率：Ti等离子体>80%                ● 离子能量控制：10—1000 eV

● 离子注入电压：40 kV（可定制）                   ● 搭载等离子体诊断系统（OES）、离子能量监控系统

● 朗缪尔（Langmuir）探针（6个检测探针）     ● 极限真空：1×10−4 Pa

● 真空室有效尺寸：Φ1000×1000 mm；（按需定制）    ● HiPIMS磁控溅射电源及阴极：6部（柱靶或平面靶选配）

● 基体材料：H13钢/陶瓷/高分子材料/NdFeB磁体

主要应用

车用模具、NdFeB磁材、锂电池负极、LED基板等

代表性应用成果

(a)冷作模具脱模涂层

(b)挤压模具高温涂层

(c)手机NdFeB镀铝

主要用户单位 长春一汽、包头寰宇、长城汽车、吉林力科
研制单位 中国科学院力学研究所
联系方式 李光 010-82545007，18610356223 lghit@imech.ac.cn