表(Table )
引用本文
磁控溅射卷绕镀膜设备:JCD-U1300A[J]. 中国科学院院刊, 2019, 34(Z1): 63-63
Roll-To-Roll Magnetron Sputtering Coating System[J]. Bulletin of Chinese Academy of Sciences, 2019, 34(Z1): 63-63
磁控溅射卷绕镀膜设备:JCD-U1300A
Roll-To-Roll Magnetron Sputtering Coating System
● 最大膜宽1350 mm、可镀膜宽度最大1250 mm、膜卷直径最大400 mm、芯长最大1450 mm
● 极限压力（镀膜室内）约5×10−4 Pa、膜层厚度均匀率±3%、镀膜速度约0.5—10 m/min
● 卷绕张力0—500 N, 精度±5%、卷绕速度范围0.5—10 m/min、膜层跑偏量为来回3次≤ 5 mm
● 镀膜鼓温度控制范围−10 ℃—+40 ℃
主要应用光伏膜、半导体导电膜、汽车建筑玻璃膜, 新型显示屏和触摸屏膜、新材料膜等柔性基底膜层镀制
代表性应用成果
| 主要用户单位 | 科研院所、军工单位、大型上市企业 |
| 研制单位 | 成都中科唯实仪器有限责任公司、中国科学院上海硅酸盐研究所 |
| 联系方式 | 蒋红雨 028-85121810 jhongyu@cdzkws.com |