表(Table )
引用本文
原子层沉积系统[J]. 中国科学院院刊, 2019, 34(Z1): 68-68
Atomic Layer Deposition System TALD.PEALD[J]. Bulletin of Chinese Academy of Sciences, 2019, 34(Z1): 68-68
原子层沉积系统
Atomic Layer Deposition System TALD.PEALD
● 非均匀性：氧化铝≤ ±1% ● 沉积材料：氧化物、氮化物、单质等
● 气路：最大6路液态前驱体源
主要应用微电子器件、光伏、催化等领域的薄膜沉积
代表性应用成果
| 主要用户单位 | 清华大学、北京大学、中国科学院半导体研究所、国家纳米科学中心 |
| 研制单位 | 中国科学院微电子研究所/嘉兴科民电子设备技术有限公司、中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司 |
| 联系方式 | 何老师 010-62049399，13581817539 hemeng@ime.ac.cn 024-23826855 |