表(Table )
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光刻机系列:URE系列/DS系列[J]. 中国科学院院刊, 2019, 34(Z1): 72-72
Mask Aligner[J]. Bulletin of Chinese Academy of Sciences, 2019, 34(Z1): 72-72
光刻机系列:URE系列/DS系列
Mask Aligner
● URE-2000系列深度光刻机:分辨力0.8—1 μm，套刻精度0.5 μm，曝光面积1—6英寸, 可添加纳米压印接口
● URE-2000S双面光刻机机系列:分辨力1 μm，单面对准精度0.5 μm，双面对准精度0.5—1 μm，曝光面积1—8英寸，曝光方式底面对准或双曝光头方式，可添加纳米压印接口
主要应用集成电路、半导体元器件、光电子器件、光学器件的研制和生产
代表性应用成果
| 主要用户单位 | 清华大学、北京大学、中国科技大学、复旦大学、浙江大学、上海交通大学、香港科技大学、南洋理工学院等高校，中国科学院物理研究所、西安光学精密机械研究所、微电子研究所、上海微系统与信息技术研究所、上海技术物理研究所、长春光学精密机械与物理研究所、中国电子科技集团、航天九院和四院等单位 |
| 研制单位 | 中国科学院光电技术研究所、中国科学院微电子研究所 |
| 联系方式 | 赵立新 028-85101784，13568853630 zhaolixin@ioe.ac.cn 何老师 010-62049399，13581817539 hemeng@ime.ac.cn |