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电子束蒸发系统:EB900、EB700、EB500、DZS500
Electron Beam Evaporation System
中国科学院院刊, 2019, 34(Z1): 78-78
Bulletin of Chinese Academy of Sciences, 2019, 34(Z1): 78-78

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电子束蒸发系统:EB900、EB700、EB500、DZS500[J]. 中国科学院院刊, 2019, 34(Z1): 78-78
Electron Beam Evaporation System[J]. Bulletin of Chinese Academy of Sciences, 2019, 34(Z1): 78-78
电子束蒸发系统:EB900、EB700、EB500、DZS500
Electron Beam Evaporation System

性能指标

● 真空系统极限真空度：≤ 2.6×10−5 Pa，系统从大气开始抽气，20分钟可达到2.6×10−4 Pa

● 蒸发材料：Au、Ag、Al、Cu、Si等    ● 蒸发速率范围：0.1—30 Å /sec

● 膜厚均匀性：＜±5%；膜厚测量：石英晶振膜厚仪，水冷探头

主要应用

用于金属、半导体等材料的薄膜制备

代表性应用成果

主要用户单位 中科芯集成电路股份有限公司、天津大学、南京大学、中国科学技术大学、北京航空航天大学、中国电子科技集团公司第二十六研究所等
研制单位 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司
联系方式 方老师 024-23826855，23826899，23826827，23826820