表(Table )
引用本文
磁控溅射台：PVD500A等[J]. 中国科学院院刊, 2019, 34(Z1): 79-79
Magnetron Sputtering System[J]. Bulletin of Chinese Academy of Sciences, 2019, 34(Z1): 79-79
磁控溅射台：PVD500A等
Magnetron Sputtering System
●系统极限真空度≤ 6×10−5 Pa
●溅射材料：Au、Ag、Pt、W、Mo、Ta、Ti、Al、Si等
●片内镀膜厚度均匀性：4英寸样片片间≤ ±2.9%，批间膜厚均匀性≤ ±3.9%（连续10炉）
主要应用各种薄膜的制备、研究
代表性应用成果●装饰镀膜，如灯具表面的薄膜制备等
●国防军事保护膜，如夜视仪镜片表面的薄膜制备等
●金属导电膜，如锂电池导电薄膜等
| 主要用户单位 | 南京大学、中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、中国科学技术大学、哈尔滨工业大学、龙焱能源科技有限公司等 |
| 研制单位 | 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司、中国科学院微电子所、中国科学院固体物理所 |
| 联系方式 | 何老师 010-62049399，13581817539 hemeng@ime.ac.cn 李新化 0551-65591402，15105601736 xihuali@issp.ac.cn 万向明 024-23826855，13998191237 wanxm@sky.ac.cn |