表(Table )
引用本文
小型电子束曝光系统：DY-2000A[J]. 中国科学院院刊, 2019, 34(Z1): 84-84
Electron Beam Lithography System based on SEM[J]. Bulletin of Chinese Academy of Sciences, 2019, 34(Z1): 84-84
小型电子束曝光系统：DY-2000A
Electron Beam Lithography System based on SEM
●加速电压：1—30 kV ●电子束直径：6 nm ●电子束流：4 pA—10 nA
●最细线宽：20 nm ●扫描速度：5 MHz ●图形尺寸精度：0.06 µm；
●场拼接精度：0.1 µm ●单场曝光范围：10—1000 µm ●位移台运动范围：50 mm×50 mm
主要应用微纳米器件制作、新型半导体器件研究
代表性应用成果
| 主要用户单位 | 国家纳米科学中心、中国科学院上海微系统与信息技术研究所、清华大学、南京大学 |
| 研制单位 | 中国科学院电工研究所 |
| 联系方式 | 刘俊标 010-82547185，13693629614 |