表(Table )
引用本文
原子层沉积系统：TALD.PEALD. 中国科学院院刊, 2020, 35(Z1): 108-108
Atomic Layer Deposition System. Bulletin of Chinese Academy of Sciences, 2020, 35(Z1): 108-108
原子层沉积系统：TALD.PEALD
Atomic Layer Deposition System
●非均匀性：氧化铝≤±1% ●沉积材料：氧化物、氮化物、单质等 ●气路：最大6路液态前驱体源
主要应用微电子器件、光伏、催化等领域的薄膜沉积
代表性应用成果
| 主要用户单位 | 清华大学、北京大学、中国科学院半导体研究所、国家纳米科学中心、中国科学院长春光学精密机械与物理研究所、中国科学院物理研究所、天津大学、南开大学等 |
| 研制单位 | 中国科学院微电子研究所、嘉兴科民电子设备技术有限公司、中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司 |
| 联系方式 | 何老师 010-62049399，13581817539 hemeng@ime.ac.cn 万向明 024-23826819，13998191237 wanxm@sky.ac.cn |