表(Table )
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光刻机系列：URE系列. 中国科学院院刊, 2020, 35(Z1): 109-109
Mask Aligner. Bulletin of Chinese Academy of Sciences, 2020, 35(Z1): 109-109
光刻机系列：URE系列
Mask Aligner
URE-2000系列深度光刻机
●分辨力：0.8—1 μm ●套刻精度：0.5 μm ●曝光面积：1—6英寸 ●可添加纳米压印接口URE-2000S双面光刻机系列
●单面对准精度：0.5 μm ●分辨力：1 μm ●双面对准精度：0.5—1 μm ●曝光面积：1—8英寸
●曝光方式：底面对准或双曝光头方式 ●可添加纳米压印接口
主要应用集成电路、半导体元器件、光电子器件、光学器件的研制和生产
代表性应用成果
| 主要用户单位 | 清华大学、北京大学、中国科学技术大学、复旦大学、浙江大学、上海交通大学、香港科技大学、南洋理工学院等高校，中国科学院物理研究所、西安光学精密机械研究所、微电子研究所、上海微系统与信息技术研究所、上海技术物理研究所、长春光学精密机械与物理研究所，以及中国电子科技集团、中国航天科技集团公司第九研究院和第四研究院等单位 |
| 研制单位 | 中国科学院光电技术研究所、中国科学院微电子研究所 |
| 联系方式 | 赵立新 028-85101784，13568853630 zhaolixin@ioe.ac.cn 何萌 010-62049399，13581817539 hemeng@ime.ac.cn |