表(Table )
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电子束蒸发系统:EB900、EB700、EB500、DZS500. 中国科学院院刊, 2020, 35(Z1): 77-77
Electron Beam Evaporation System. Bulletin of Chinese Academy of Sciences, 2020, 35(Z1): 77-77
电子束蒸发系统:EB900、EB700、EB500、DZS500
Electron Beam Evaporation System
●真空系统极限真空度：≤ 2.6×10−5 Pa；系统从大气开始抽气，20 min可达到2.6×10−4 Pa
●蒸发材料：Au、Ag、Al、Cu、Si等 ●蒸发速率范围：0.1—30 Å /s
●膜厚均匀性：＜±5% ●膜厚测量：石英晶振膜厚仪，水冷探头
主要应用用于金属、半导体等材料的薄膜制备
代表性应用成果
| 主要用户单位 | 中科芯集成电路股份有限公司、天津大学、南京大学、中国科学技术大学、北京航空航天大学、中国电子科技集团公司第二十六研究所等 |
| 研制单位 | 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司 |
| 联系方式 | 万向明 024-23826819，13998191237 wanxm@sky.ac.cn |