集束型纳米薄膜生长系统:CD4*100
Cluster Deposition

主要技术与性能指标

●旋转式高真空传输系统  ●实现高真空5×10−7 Torr的高真空环境

●薄膜生长实现原子级别的精准控制  ● PVD/ALD工艺平台的集成

主要应用

全真空环境下器件制备

代表性应用成果

主要用户单位 中国科学院物理研究所、中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
研制单位 中国科学院微电子研究所、嘉兴科民电子设备技术有限公司
联系方式 何萌  010-82995592,13581817539  hemeng@ime.ac.cn