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蒸发镀膜设备:EB-500、EB-700、EB-900
Electron Beam Evaporation Coating Equipment
中国科学院院刊, 2020, 35(Z1): 81-81
Bulletin of Chinese Academy of Sciences, 2020, 35(Z1): 81-81

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蒸发镀膜设备:EB-500、EB-700、EB-900. 中国科学院院刊, 2020, 35(Z1): 81-81
Electron Beam Evaporation Coating Equipment. Bulletin of Chinese Academy of Sciences, 2020, 35(Z1): 81-81
蒸发镀膜设备:EB-500、EB-700、EB-900
Electron Beam Evaporation Coating Equipment

主要技术与性能指标

●极限真空度＜2.6×10−5 Pa，系统真空漏率≤ 6.6×10−8 Pa.l/s，膜厚不均匀度≤ ±5%

●片间不均匀性≤ ±5%

●批间不均匀性≤ ±5%

主要应用

半导体、LED生产线批量生产

代表性应用成果

可满足铝、钛、铬、钒、镍、银、铟等金属，以及ITO等氧化物在基片上均匀沉积薄膜的各类工艺要求

主要用户单位 中国科学院半导体研究所、昆明京东方显示技术有限公司、云南北方奥雷德光电科技股份有限公司、吉林华微电子股份有限公司等
研制单位 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司
联系方式 万向明  024-23826867，13998191237  wanxm@sky.ac.cn