磁控溅射卷绕镀膜设备
Roll-To-Roll Magnetron Sputtering Vacuum Coating System

主要技术与性能指标

●最大膜宽1 350 mm、可镀膜宽度最大1 250 mm、膜卷直径最大400 mm、芯长最大1 450 mm

●极限压力(镀膜室内)约5×10−4 Pa、膜层厚度均匀率±3%、镀膜速度约0.5—10 m/min

●卷绕张力0—500 N, 精度±5%、卷绕速度范围0.5—10 m/min、膜层跑偏量为来回3次≤ 5 mm

●镀膜鼓温度控制范围−10 ℃—+40 ℃

主要应用

航空航天、光伏膜、半导体导电膜、汽车建筑玻璃膜、新型显示屏和触摸屏膜、新材料膜等柔性基底膜层

代表性应用成果

3C产品中使用的透明导电薄膜、汽车薄膜贴膜

主要用户单位 中国科学院上海硅酸盐研究所
研制单位 北京中科科仪股份有限公司、成都中科唯实仪器有限责任公司
联系方式 万红军  028-85121280,13880623005  wanhj@cdzkws.com