高能脉冲磁控溅射镀膜机:HiPIMS-001
High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS) Coating Machine
●搭载等离子体诊断系统(OES)、离子能量监控系统 ●离子注入电压:40 kV(可定制)
●朗缪尔(Langmuir)探针(6个检测探针) ●极限真空:1×10−4 Pa
●真空室有效尺寸:Φ1 000×1 000 mm(按需定制) ●等离子体离化率:Ti等离子体>80%
●磁控溅射电源及阴极:6部(柱靶或平面靶选配) ●离子能量控制:10—1 000 eV
●基体材料:H13钢/陶瓷/高分子材料/NdFeB磁体
主要应用车用模具、NdFeB磁材、锂电池负极、LED基板等
代表性应用成果