高能脉冲磁控溅射镀膜机:HiPIMS-001
High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS) Coating Machine

主要技术与性能指标

●搭载等离子体诊断系统(OES)、离子能量监控系统  ●离子注入电压:40 kV(可定制)

●朗缪尔(Langmuir)探针(6个检测探针)  ●极限真空:1×10−4 Pa

●真空室有效尺寸:Φ1 000×1 000 mm(按需定制)  ●等离子体离化率:Ti等离子体>80%

●磁控溅射电源及阴极:6部(柱靶或平面靶选配)  ●离子能量控制:10—1 000 eV

●基体材料:H13钢/陶瓷/高分子材料/NdFeB磁体

主要应用

车用模具、NdFeB磁材、锂电池负极、LED基板等

代表性应用成果

主要用户单位 长春一汽、包头寰宇、长城汽车、吉林力科
研制单位 中国科学院力学研究所
联系方式 李光  010-82545007,18610356223  lghit@imech.ac.cn