推荐单位:中国科学院物理研究所
完成单位:中国科学院物理研究所
合作单位:北京天科合达半导体股份有限公司
成果简介碳化硅(SiC)晶体是一种性能优异的宽禁带半导体材料,在发光器件、电力电子器件、射频微波器件制备等领域具有广泛的应用。但其晶体生长极其困难,只有少数发达国家掌握SiC晶体生长和加工技术。SiC晶体国产化,对避免我国宽禁带半导体产业被“卡脖子”至关重要。团队自1999年以来,立足自主研发,从基础研究到应用研究,突破了生长设备到高质量SiC晶体生长和加工等关键技术,形成了具有自主知识产权的完整技术路线,实现了SiC晶体国产化、产业化,产生了良好的经济和社会效益,推动了我国宽禁带半导体产业的发展。
形成了完整的自主知识产权,获授权发明专利27项(含6项国外专利),主持制定国家标准3项。成立了国内首家SiC晶体公司——北京天科合达半导体股份有限公司,2019年新增销售收入1.55亿元,新增利润2 596万元。北京天科合达半导体股份有限公司已发展成为国际知名SiC单晶衬底生产商之一,引领和推动了我国宽禁带半导体行业研究和产业链的发展。
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陈小龙 中国科学院物理研究所 主要贡献:团队负责人,发明核心关键技术,组织技术研发与产业化。 |
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王文军 中国科学院物理研究所 主要贡献:晶体生长与物性研究。 |
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王刚 中国科学院物理研究所 主要贡献:晶体生长与物性研究。 |
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郭丽伟 中国科学院物理研究所 主要贡献:晶体生长与物性研究。 |
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金士锋 中国科学院物理研究所 主要贡献:晶体加工与表征研究。 |
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郭建刚 中国科学院物理研究所 主要贡献:晶体加工与表征研究。 |
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许燕萍 中国科学院物理研究所 主要贡献:晶体加工与表征研究。 |
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彭同华 北京天科合达半导体股份有限公司 主要贡献:晶体生长与产业化。 |
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刘春俊 北京天科合达半导体股份有限公司 主要贡献:晶体生长与产业化。 |
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杨建 北京天科合达半导体股份有限公司 主要贡献:晶体产业化推广。 |