引用本文
光刻机系列: URE系列. 中国科学院院刊, 2021, 36(Z1): 115-115
Mask Aligner. Bulletin of Chinese Academy of Sciences, 2021, 36(Z1): 115-115
光刻机系列: URE系列
Mask Aligner
URE-2000 系列深度光刻机
● 分辨力：0.8—1 μm ● 套刻精度：0.5 μm ● 曝光面积：1—6英寸 ● 可添加纳米压印接口
URE-2000S 双面光刻机系列
● 单面对准精度：0.5 μm ● 分辨力：1 μm ● 双面对准精度：0.5—1 μm ● 曝光面积：1—8英寸
● 曝光方式：底面对准或双曝光头方式 ● 可添加纳米压印接口
主要应用集成电路、半导体元器件、光电子器件、光学器件的研制和生产
代表性应用成果
