光栅系列:(平面刻划光栅、平面全息光栅、曲面全息光栅)
Diffraction Gratings

主要技术与性能指标

平面刻划光栅  ● 光栅最大尺寸:400 mm×500 mm   ● 刻线密度:5—5 000 gr/mm   ● 光栅衍射效率:优于理论值90%

● 光栅杂散光:10−4   ● 光栅衍射波前:优于λ/4(@632.8nm)

平面全息光栅  ● 最大光栅尺寸:200 mm×200 mm   ● 刻线密度:10—4 300 gr/mm   ● 衍射效率:95%   ● 杂散光:10−4

曲面全息光栅  ● 最大光栅尺寸:200 mm×200 mm   ● 刻线密度:10—4 300 gr/mm   ● 波段范围:20—12 00 nm

主要应用

用于高端光谱仪器、光栅干涉仪、激光器、高精度位移测量系统、大型科学装备(同步辐射光源等)

代表性应用成果

研发了光纤阵列太阳光学望远镜(FASOT)用大尺寸中阶梯光栅、“天问一号”火星表面成份探测仪用高精度光栅、02专项光刻机光源线宽压窄光栅、“风云三号”太阳辐照度光谱仪光栅、Hα太阳望远镜用高刻线密度光栅等自主知识产权高精度光栅。为日本岛津公司、美国海洋公司、上海天美公司、北京钢研纳克等国内外国际知名企业提供大量产品光栅,基本构建起我国光栅产业基地和出口基地