主要技术与性能指标

● 离子源种类：双潘宁离子源、射频离子源 ● 离子种类：N⁺，Ar⁺  ● 粒子能量：10-40 keV

● 剂量率：>1×10¹³ ions/cm²·s               ● 束流强度：>1 mA      ● 束径：ϕ8-15 cm

● 束均匀度：> 90%                                   ● 工作真空：2×10^-4-2.5×10^-3 Pa数显真空

主要应用

微生物菌种、植物种子诱变育种；细胞介导转基因实验操作；离子束生物材料改性

代表性应用成果

花生四烯酸育种成果转化成立武汉烯王公司并控股嘉必优于科创板上市；离子束修饰关键酶技术使我国成为世界维生素C市场主要生产供应商；依托本装置的“低能离子束细胞修饰技术和装置”获得国家技术发明奖二等奖及中国专利金奖