基于可调谐深紫外激光光源的近常压光发射电子显微镜: DUV-NAP-PEEM
Tunable Deep Ultraviolet Laser Based Near Ambient Pressure Photoemission Electron Microscope

主要技术与性能指标

●可调谐深紫外激光波长:175—210 nm    ●激光功率:> 1.5 mW @ 193 nm

●最高工作压力:1 mbar    ●高真空状态下的空间分辨率:10 nm

●近常压状态下的空间分辨率:~ 30 nm    ●样品台温度:150—1500 K

主要应用

对表面纳米结构进行原位、动态的表面成像研究,在高空间分辨条件下观察纳米体系中的表面动力学过程;应用于催化化学、表面物理、薄膜生长等表面科学研究领域,以及电池相关的表界面过程的原位动态研究

代表性应用成果

●可实现接近常压气氛条件下工作的光发射电子显微成像方法及其成像系统(专利号:ZL201810432739.8)

●一种将可调谐深紫外激光源与近常压光发射电子显微镜联合的成像系统及方法(专利号:ZL201810431544.1)