表(Table )
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磁控溅射台: PVD500A等. 中国科学院院刊, 2021, 36(Z1): 71-71
Physical Vapor Deposition. Bulletin of Chinese Academy of Sciences, 2021, 36(Z1): 71-71
磁控溅射台: PVD500A等
Physical Vapor Deposition
●系统极限真空度：≤6×10−5 Pa
●溅射材料：Au、Ag、Pt、W、Mo、Ta、Ti、Al、Si等
●片内镀膜厚度均匀性：4英寸样片片间≤±2.9%；批间膜厚均匀性≤±3.9%（连续10炉）
主要应用各种薄膜的制备、研究
代表性应用成果●装饰镀膜，如灯具表面的薄膜制备等
●夜视仪镜片表面的薄膜制备等
●金属导电膜，如锂电池导电薄膜等
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