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原子层沉积系统: TALD.PEALD
Atomic Layer Deposition System
中国科学院院刊, 2021, 36(Z1): 72-72
Bulletin of Chinese Academy of Sciences, 2021, 36(Z1): 72-72

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原子层沉积系统: TALD.PEALD. 中国科学院院刊, 2021, 36(Z1): 72-72
Atomic Layer Deposition System. Bulletin of Chinese Academy of Sciences, 2021, 36(Z1): 72-72
原子层沉积系统: TALD.PEALD
Atomic Layer Deposition System

主要技术与性能指标

●非均匀性：氧化铝≤±1%  ●沉积材料：氧化物、氮化物、单质等  ●气路：最大6路液态前驱体源

主要应用

微电子器件、光伏、催化等领域的薄膜沉积

代表性应用成果