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蒸发镀膜设备: EB-700、EB-900
Electron Beam Evaporation Coating Equipment
中国科学院院刊, 2021, 36(Z1): 77-77
Bulletin of Chinese Academy of Sciences, 2021, 36(Z1): 77-77

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蒸发镀膜设备: EB-700、EB-900. 中国科学院院刊, 2021, 36(Z1): 77-77
Electron Beam Evaporation Coating Equipment. Bulletin of Chinese Academy of Sciences, 2021, 36(Z1): 77-77
蒸发镀膜设备: EB-700、EB-900
Electron Beam Evaporation Coating Equipment

主要技术与性能指标

●极限真空度：< 2.6×10-5 Pa  ●系统真空漏率：≤6.6×10-8 Pa.l/s  ●膜厚不均匀度：≤±5%

●片间不均匀性：≤±5%  ●批间不均匀性：≤±5%

主要应用

半导体、LED生产线批量生产

代表性应用成果

可满足铝、钛、铬、钒、镍、银、铟等金属，以及ITO等氧化物在基片上均匀沉积薄膜的各类工艺要求