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掠角入射沉积电子束蒸发设备: EB-GLAD-500
Glancing Angle Deposition (GLAD) E-beam Evaporator
中国科学院院刊, 2021, 36(Z1): 78-78
Bulletin of Chinese Academy of Sciences, 2021, 36(Z1): 78-78

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掠角入射沉积电子束蒸发设备: EB-GLAD-500. 中国科学院院刊, 2021, 36(Z1): 78-78
Glancing Angle Deposition (GLAD) E-beam Evaporator. Bulletin of Chinese Academy of Sciences, 2021, 36(Z1): 78-78
掠角入射沉积电子束蒸发设备: EB-GLAD-500
Glancing Angle Deposition (GLAD) E-beam Evaporator

主要技术与性能指标

●极限真空度：≤1×10-5 Pa        ●样品台倾斜（0º-270º）与自转双轴步进电机驱动，程序控制

●液氮冷却和/或加热                   ●样品尺寸：≤4英寸

主要应用

金属、氧化物及半导体材料的三维纳米结构阵列薄膜生长制备，光学薄膜、气体传感器、生化传感器，如SERS等

代表性应用成果