固态纳米孔制备仪: CASIA-OPT-01
Solid-state Nanopore Dielectric Breakdown Apparatus

主要技术与性能指标

●纳米孔孔径:0.5—200 nm   ●单个纳米孔成孔时间:< 1 s   ●纳米孔位置精度:>100 nm

●可制备纳米孔阵列  ●加工薄膜厚度:0.35—200 nm   ●加工行程:25 cm×25 cm

主要应用

氮化硅、石墨烯、二氧化硅、二硫化钼、二硫化钨、PMMA固态纳米孔/ 阵列原位精确快速制备

代表性应用成果

制备1—60 nm的氮化硅阵列纳米孔,测试RNA分子(如图);

制备0.5—60 nm的石墨烯纳米孔;

制备2—200 nm的PMMA纳米孔