固态纳米孔制备仪: CASIA-OPT-01
Solid-state Nanopore Dielectric Breakdown Apparatus
●纳米孔孔径:0.5—200 nm ●单个纳米孔成孔时间:< 1 s ●纳米孔位置精度:>100 nm
●可制备纳米孔阵列 ●加工薄膜厚度:0.35—200 nm ●加工行程:25 cm×25 cm
主要应用氮化硅、石墨烯、二氧化硅、二硫化钼、二硫化钨、PMMA固态纳米孔/ 阵列原位精确快速制备
代表性应用成果制备1—60 nm的氮化硅阵列纳米孔,测试RNA分子(如图);
制备0.5—60 nm的石墨烯纳米孔;
制备2—200 nm的PMMA纳米孔
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