深紫外激光光发射电子显微镜: DUV-PEEM
Deep Ultraviolet Photoemission Electron Microscope

主要技术与性能指标

● PEEM分辨率:≤ 10 nm          ● LEEM分辨率:≤ 5 nm          ●能量分辨率:≤ 0.2 eV

主要应用

表面分析科学中的表面磁学、表面催化、薄膜生长等

代表性应用成果

磁学研究、表面催化、薄膜生长