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原子层沉积系统: TALD-D/PEALD
Atomic Layer Deposition System
中国科学院院刊, 2022, 37(Z1): 35-35
Bulletin of Chinese Academy of Sciences, 2022, 37(Z1): 35-35

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原子层沉积系统: TALD-D/PEALD. 中国科学院院刊, 2022, 37(Z1): 35-35
Atomic Layer Deposition System. Bulletin of Chinese Academy of Sciences, 2022, 37(Z1): 35-35
原子层沉积系统: TALD-D/PEALD
Atomic Layer Deposition System

主要技术与性能指标

● 非均匀性：氧化铝≤ ±1%          ● 沉积材料：氧化物、氮化物、单质等          ● 气路：最大6路液态前驱体源

主要应用

微电子器件、光伏、催化等领域的薄膜沉积

代表性应用成果