系列高离化磁控溅射镀膜仪: Arc 650、FCVA
Hybrid Magnetron Sputtering Coating System
高离化率磁控溅射复合受控阴极电弧镀膜装置
● 等离子体源:受控阴极电弧(2组4套),高功率脉冲磁控溅射源(1-2套) ● 极限真空:< 5.0×10-6 Torr
● 等离子体均匀区:ϕ500 mm×350 mm(h)(±10%) ● 腔体加热温度:≤ 650℃
● 可制备各类微米级金属涂层及氮基、碳基、硼基等硬质抗氧化防护涂层
磁过滤阴极电弧复合磁控溅射镀膜仪
● 双弯曲磁过滤阴极电弧源: 等离子体均匀区ϕ120 mm(厚度变化±6%),沉积温度 < 100℃,可制备纳米级到微米级的ta-C超硬薄膜 ● 腔体极限真空:< 5.0 × 10-6 Torr ● 加热温度:≤ 450℃
● 磁控溅射源:等离子体均匀区350 mm(长)× 120 mm(±10%),等离子体密度1017-1018/m3
主要应用在刀具、工模具等领域的强化防护薄膜制备;实现超硬类金刚石薄膜制备,应用于光学模具、汽车零部件、纺织机械、硬质合金刀具等领域
代表性应用成果高速钢/工具钢钻头强化涂层、硬质合金铣刀/滚齿刀/可转位刀片涂层、金属材料表面抗氧化防护MAX相涂层;海水液压泵防护涂层、装饰涂层、锆合金包壳防护涂层、光学精密模具
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