表(Table )
引用本文
偏振光栅光刻机: NGALitho-100. 中国科学院院刊, 2022, 37(Z1): 55-55
Pixel-level Polarization Grating Lithography Special Equipment. Bulletin of Chinese Academy of Sciences, 2022, 37(Z1): 55-55
偏振光栅光刻机: NGALitho-100
Pixel-level Polarization Grating Lithography Special Equipment
● 曝光波长：365 nm LED ● 单场最大曝光面积：30 mm× 30 mm ● 光栅周期：260—550 nm
● 偏振角：0°—360°连续可调 ● 外形尺寸：2 000 mm（长）× 1 200 mm（宽）× 1 850 mm（高）
主要应用正交曝光实现大面积纳米点阵列，适应各种芯片尺寸和形状要求；曝光头360°高精度旋转，实现任意偏振方向控制；多重曝光制备复合多频线栅、复合多频二维平面光栅、大面积偏振敏感全息光栅
代表性应用成果可用于周期性大面积纳米点阵、大面积像素偏振光栅、复合多频二维平面光栅的制备
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