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蒸发源及控制器: E-beam Evaporator、K-Cell Evaporator (Effusion Cell)、Cracker、Alkali Metal Evaporator E-beam Controller、Temperature Controller、Baking Controller
Evaporators and Controllers
中国科学院院刊, 2022, 37(Z1): 57-57
Bulletin of Chinese Academy of Sciences, 2022, 37(Z1): 57-57

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蒸发源及控制器: E-beam Evaporator、K-Cell Evaporator (Effusion Cell)、Cracker、Alkali Metal Evaporator E-beam Controller、Temperature Controller、Baking Controller. 中国科学院院刊, 2022, 37(Z1): 57-57
Evaporators and Controllers. Bulletin of Chinese Academy of Sciences, 2022, 37(Z1): 57-57
蒸发源及控制器: E-beam Evaporator、K-Cell Evaporator (Effusion Cell)、Cracker、Alkali Metal Evaporator E-beam Controller、Temperature Controller、Baking Controller
Evaporators and Controllers

主要技术与性能指标

● 电阻加热蒸发源-法兰：DN 40 CF—DN 100 CF；温度范围：100℃—1 500℃；多种坩埚尺寸可选

● 裂解源-法兰：DN 40 CF—DN 100 CF；温度范围：低温区100℃—400℃，高温区300℃—800℃

● 电子束加热蒸发源-法兰：DN40CF；源数量：1；最高工作温度范围：≥ 3 000℃

● 电子束加热控制器-高压源：0—2 000 V，250 W；束流检测范围：100 pA—1 mA；灯丝电流：0—7 A

● 多功能温度控制器-输出功率：600—1 600 W，最多4路，自由分配；输出电流：20/40 A；控温精度：±0.1℃

主要应用

适用于MBE、表面科学、薄膜生长、样品制备及半导体材料、低维超导与拓扑材料，量子材料、磁性拓扑绝缘体材料、新型半导体电子材料等研究领域；非常适合用于蒸发高温难熔金属

代表性应用成果