投影光刻机: UVSTEP-50I01
High-efficient Special Stepper for Sensor Chip Fabraction

主要技术与性能指标

● 光刻光源:365 nm(汞灯/LED)    ● 光刻分辨率:1—2.5 μm(可选)    ● 最大视场:50 mm×50 mm

● 样片外缘特种套刻精度:2 μm         ● 图层间套刻精度:< 500 nm            ● 产率:传感器芯片 > 900片/h

● 气浮工件台行程:> 250 mm×250 mm

主要应用

该装备能自动完成样片外缘特种套刻和图层套刻,可适应各类定制化基底,具有批处理效率高、自动化程度高、光刻质量高、曝光一致性好的特点。可用于温度传感器、压力传感器、电容传感器、声表器件等微纳器件的生产

代表性应用成果

已成功应用于多家不同类型传感芯片科研、生产单位。在压力敏传感芯片领域,相比现有接近接触式设备光刻效率提升10倍以上,并协助完成国内首条压力敏传感芯片国产化生产线建设,实现关键设备自主可控