主要技术与性能指标

平面刻划光栅  ● 光栅最大尺寸：400 mm×500 mm    ● 刻线密度：5—5 000 gr/mm      ● 光栅衍射效率：优于理论值90%

                           ● 光栅杂散光：10⁻⁴                            ● 光栅衍射波前：优于λ/4(@632.8 nm)

平面全息光栅  ● 最大光栅尺寸：200 mm×200 mm    ● 刻线密度：10—4 300 gr/mm    ● 衍射效率：95%    ● 杂散光：10⁻⁴

曲面全息光栅  ● 最大光栅尺寸：200 mm×200 mm    ● 刻线密度：10—4 300 gr/mm    ● 波段范围：20—12 00 nm

主要应用

高端光谱分析仪器、天文望远镜、激光器、深空探测、光通信、精密位移测量、同步辐射等领域

代表性应用成果

在支撑我国重大工程任务方面，为“羲和号”“天问一号”“风云3号”、高端光刻机、大型天文望远镜等定制高精度特种光栅；在推动国民经济发展方面，研制的多款高精度光栅，品质超越国际知名公司产品，打破了国外垄断，大幅降低了我国仪器成本，提高了产品竞争力