超高精度面形干涉测量设备:UHAFIZ-150
Ultra-high Accuracy Interferometer for Sub-Nanometer Optical Surface Metrology

主要技术与性能指标

● 有效通光口径:150 mm    ● 分辨率:1 024×1 024    ● 绝对精度:0.1 nm RMS    ● 重复精度:0.02 nm RMS

主要应用

主要用于高端光学系统,例如:光刻机投影曝光系统、同步辐射光源聚焦系统、引力波探测系统等中的平球面及非球面光学元件的超高精度面形检测

代表性应用成果

在国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”中为NA0.75曝光系统光刻镜头的物镜提供测量,为同步辐射光源中压弯柱面镜面形的拼接测量提供检测