http://dx.doi.org/10.16418/j.issn.1000-3045.2023Z104041
0

文章信息

电子束蒸发镀膜设备: EB-700、EB-900
Electron Beam Evaporation Coating Equipment
中国科学院院刊, 2023, 38(Z1): 41-41
Bulletin of Chinese Academy of Sciences, 2023, 38(Z1): 41-41

文章历史

工作空间

引用本文           
电子束蒸发镀膜设备: EB-700、EB-900. 中国科学院院刊, 2023, 38(Z1): 41-41
Electron Beam Evaporation Coating Equipment. Bulletin of Chinese Academy of Sciences, 2023, 38(Z1): 41-41
电子束蒸发镀膜设备: EB-700、EB-900
Electron Beam Evaporation Coating Equipment

主要技术与性能指标

●极限真空度：< 2.6×10−5 Pa  ●系统真空漏率：≤ 6.6×10−8 Pa.l/s  ●膜厚不均匀度：≤ ±5%

●片间不均匀性：≤ ±5%  ●批间不均匀性：≤ ±5%

主要应用

半导体、LED科学研究

代表性应用成果

可满足铝、钛、铬、钒、镍、银、铟等金属，以及ITO等氧化物在基片上均匀沉积薄膜的各类工艺要求