集束型纳米薄膜生长系统: CD-100
Cluster Deposition

主要技术与性能指标

●旋转式高真空传输系统  ●实现5×10−7 Torr的高真空环境

●薄膜生长实现原子级别的精准控制  ● PVD/ALD工艺平台的集成

主要应用

全真空环境下器件制备

代表性应用成果