主要技术与性能指标

●光束口径：650 mm× 650 mm—850 mm× 850 mm  ●有效曝光面积：600 mm× 600 mm—800 mm× 800 mm

●分辨力：4—6 μm  ●对准精度：±2 μm  ●对准显微镜中心距：100—800 mm可调

●掩模尺寸：最大850 mm× 850 mm（根据要求定制配置20英寸）  ●光源平行度：< 3°

●样片尺寸：200 mm× 200 mm—800 mm× 800 mm，厚度：0.2—20 mm，可根据用户要求进行配置

●光源不均匀性：≤ 5%  ●曝光面光强：＞30 mW/cm²@365 nm  ●光源类型：LED

主要应用

用于平板显示彩膜（CF）、隔柱（Spacer）及薄膜晶体管（TFT）等核心部件加工，以及微电子、微机电、微光学领域各种芯片、传感器、大尺寸光栅、码盘等微纳元件加工及芯片封装。应用在宏观加工领域，可完成传统机械加工方式难以实现的薄壁零件等高难度加工

代表性应用成果

大口径多台阶石英镜、平板显示彩膜（CF）、薄膜晶体管等核心部件加工