主要技术与性能指标

CXF-200/1401                     CXF-250/2301                      CXF-320/3001

● N₂抽速1 400 L/s               ● N₂抽速2 200 L/s               ● N₂抽速3 200 L/s

●极限真空2× 10⁻⁶ Pa (KF)   ●极限真空2× 10⁻⁷ Pa (CF)    ●极限真空5× 10⁻⁷ Pa (CF)

●额定转速33 000 r/min        ●额定转速30 000 r/min         ●额定转速24 000 r/min

● N₂压缩比10⁷，重量51 kg  ● N₂压缩比10⁷，重量58 kg  ● N₂压缩比10⁸，重量75 kg

主要应用

产品为真空获得设备，是实现和保证真空状态下工艺过程的基础条件。系列产品广泛应用于：基础科学研究、高端装备制造、汽车工业、新能源、新材料、太阳能、分析仪器、电子与半导体、节能环保等领域。同时也为客户提供众多定制化的配套解决方案

代表性应用成果

ITO镀膜系统设备、工业镀膜系统设备、芯片制造设备