深紫外激光光发射电子显微镜: DUV-DPL PEEM
Deep Ultraviolet Photoemission Electron Microscope

主要技术与性能指标

● PEEM 分辨率:≤10 nm   ● LEEM 分辨率:≤5 nm   ● 能量分辨率:≤0.2 eV

主要应用

表面分析科学中的表面磁学、表面催化、薄膜生长等

代表性应用成果

磁学研究、表面催化、薄膜生长