主要技术与性能指标

● 进样室极限真空度：≤5× 10⁻⁸ Torr（经烘烤除气后）

● 存储室、预处理室、过度管道、互联主管道极限真空度：≤5× 10⁻¹⁰ Torr（经烘烤除气后）

● 外延室极限真空度：≤4× 10⁻¹¹ Torr（经烘烤除气、液氮后）   ● 设备整体检漏漏率：<1.0× 10⁻⁸ P · L /s

● 系统从大气开始抽气：40 min 可达到 3× 10⁻⁷ Torr   ● 系统停泵关机 12 h 后真空度：≤0.04 Torr

主要应用

二维铁电铁磁材料、拓扑材料、非常规超导材料等低维量子材料的分子束外延生长（MBE）和扫描隧道显微学（STM） 研究，二维铁电铁磁材料异质结与超晶格对拓扑和超导电子态的调控效应；拓扑量子材料与物理、超导材料与物 理、量子磁性材料和效应、量子微纳结构加工量子电子器件、量子光电器件、单光子源与探测

代表性应用成果

碳基电子器件、低维材料半导体器件、柔性电子器件、热电制冷器件