电子束蒸发镀膜设备: EB-700、EB-900
Electron Beam Evaporator

主要技术与性能指标

● 极限真空度:<2.6× 10−5 Pa   ● 系统真空漏率:≤6.6× 10−8 Pa.L/s   ● 膜厚不均匀度:≤±5%

● 片间不均匀性:≤±5%   ● 批间不均匀性:≤±5%

主要应用

半导体、LED 科学研究

代表性应用成果

可满足铝、钛、铬、钒、镍、银、铟等金属,以及 ITO 等氧化物在基片上均匀沉积薄膜的各类工艺要求