主要技术与性能指标

●输出激光波长：193 nm、248 nm、308 nm、351 nm   ●最大激光脉冲能量：800 mJ @248 nm

●激光脉冲宽度：~25 ns   ●脉冲能量稳定性：< 1%

主要应用

半导体光刻、低温多晶硅退火、脉冲薄膜沉积、光纤光栅刻蚀、紫外精细打标

代表性应用成果

半导体集成电路光刻设备（国家重大科技专项“4 kHz脉冲泵浦电源样机”）、高端平板显示制造的准分子激光退火设备、首套基于准分子激光剥蚀的质谱和光谱联用的元素分析仪，用于地质样品的双通道快速分析（中国科学院仪器专项）、研制首台飞秒准分子激光剥蚀系统（国家自然科学基金国家重大科研仪器研制项目）、准分子激光医疗设备、科研用系列准分子激光器