主要技术与性能指标

●进样室极限真空度：≤5× 10^-8 Torr（经烘烤除气后）

●存储室、预处理室、过度管道、互联主管道极限真空度：≤5× 10^-10 Torr（经烘烤除气后）

●外延室极限真空度：≤4x10^-11 Torr（经烘烤除气、液氮后）设备整体检漏漏率小于1.0x10^-8 Pa · l/s

●系统从大气开始抽气：40 min可达到3× 10^-7 Torr

●系统停泵关机12 h后真空度：≤0.04 Torr

主要应用

二维铁电铁磁材料、拓扑材料、非常规超导材料等低维量子材料的分子束外延生长（MBE）和扫描隧道显微学（STM）研究，二维铁电铁磁材料异质结与超晶格对拓扑和超导电子态的调控效应；拓扑量子材料与物理、超导材料与物理、量子磁性材料和效应、量子微纳结构加工；量子电子器件、量子光电器件、单光子源与探测

代表性应用成果

（1）碳基电子器件；（2）低维材料半导体器件；（3）柔性电子器件；（4）热电制冷器件