高分辨连续束飞行时间二次离子质谱: DC-TOF-SIMS Ⅰ
DC Beam High Resolution Time-of-flight Secondary Ion Mass Spectrometer

主要技术与性能指标

●灵敏度优于1 ppm,质量分辨率超过20 000,质量准确度优于3 ppm,质量范围在20—2 000 u

●质谱成像分辨率优于2 μm,光学成像分辨率优于1 μm,深度剖析分辨率优于4 nm

主要应用

半导体、光电、催化、电池材料表面成像分析和深度剖析,获得不同元素的浓度分布;生命科学单细胞、组织化学成像分析,获得代谢物、标记元素浓度分布

代表性应用成果

深度剖析获得半导体材料20 nm SiGe薄膜样品中Ge元素浓度的深度分布;深度剖析钙钛矿电池样品中各元素浓度的深度分布信息;质谱成像测量固体样品中金属元素In和Mo在样品表面的空间分布信息

主要用户单位 中国科学院化学研究所、中国科学院金属研究所
研制单位 中国科学院大连化学物理研究所
联系方式 王老师  0411-84379509  abwang@dicp.ac.cn